5．彎曲度
5.1低輻射鍍膜玻璃的彎曲度不應(yīng)超過0.2%。
5.2鋼化、半鋼化低輻射鍍膜玻璃的弓形彎曲度不得超過0.3%，波形彎曲度(mm/300mm)不得超過0.2% 。
6．對角線差
6.1低輻射鍍膜玻璃的對角線差應(yīng)符合GB11614的標準的有關(guān)規(guī)定。
6.2鋼化、半鋼化低輻射鍍膜玻璃的對角線差應(yīng)符合GB17841-1999標準的有關(guān)規(guī)定。
7． 光學(xué)性能
低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)性能包括：紫外線透射比、可見光透射比、可見光反射比、太陽光直接透射比、太陽光直接反射比和太陽能總透射比。這些性能的差值應(yīng)符合表2-13c規(guī)定。
表2-13c 低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)性能要求
項目 |
允許偏差最大值（明示標稱值） |
允最大差值（未明示標稱值） |
指標 |
±1.5 |
≤3.0 |
注：對于明示稱值(系列值)的產(chǎn)品，以標稱值作為偏差的基準，偏差的最大值應(yīng)符合本表的規(guī)定；對于未明示標稱值的產(chǎn)品，則取三塊試樣進行測試，三塊試樣之間差值的最大值應(yīng)符合本表的規(guī)定。 |
8．顏色均勻性
低輻射鍍膜玻璃的顏色均勻性，以CIELAB均勻空間的色差ΔE*來表示，單位：CIELAB。測量低輻射鍍膜玻璃在使用時朝向室外的表面，該表面的反射色差ΔE不應(yīng)大于2.5 CIELAB色差單位.
9．輻射率
離線低輻射鍍膜玻璃應(yīng)低于0.15。在線低輻射鍍膜玻璃應(yīng)低于0.25。
10．耐磨性
試驗前后試樣的可見光透射比差值的絕對值不應(yīng)大于4% 。
11．耐酸性
試驗前后試樣的可見光透射比差值的絕對值不應(yīng)大于4% 。
12．耐堿性
試驗前后試樣的可見光透射比差值的絕對值不應(yīng)大于4% 。
13．超過本章的其它要求，由供需雙方協(xié)商解決。
低輻射膜(Low-E)鍍膜玻璃是表面鍍有低輻射膜系的鍍膜玻璃，其膜系結(jié)構(gòu)有多種，如圖2-11g所示。
圖2-11g
以圖10-7(7)的膜系為例，將各層膜的特性闡述如下：
膜系中第一層是SnO2膜，其作用與陽光控制膜系中的介質(zhì)膜相同，金屬膜是低輻射膜系中的主功能膜層。金屬膜的厚度與表面電阻及表面電阻與透射率的關(guān)系見圖2-11h及圖2-11i。圖上的金屬膜層是銀膜的實測數(shù)據(jù)。在銀膜上再鍍上一層很薄(厚度為1~2nm)的鋁膜。
圖2-11h
圖2-11i
金屬膜層的表面電阻隨膜厚的增加而逐漸減少，無線性關(guān)系，如圖2-11h所示。
從另一測定得出：金屬膜的表面電阻與其輻射率的關(guān)系呈線性關(guān)系，表面電阻大，輻射系數(shù)ε大。如圖2-11 i所示。
由圖2-11j可知，金屬膜的厚度與透射率呈線性關(guān)系，隨著膜厚的增加，透射率下降。
圖2-11j
低輻射膜系所鍍的金屬膜層如銀膜，膜層的質(zhì)地較軟，與其他膜層的結(jié)合力較弱，從而使整個低輻射膜系的強度不高，使用時需防止磨擦，例如在用于中空玻璃時鍍膜面常放在第三面。
金屬膜層中的鋁膜非常薄，其作用是防止銀膜等金屬膜在生產(chǎn)過程中發(fā)生氧化，對銀膜起保護作用，鋁膜本身對整個膜系的性能沒有多大影響。
Low-E膜的低輻射是針對中遠紅外線(波長大于5μm)而言的。在遠紅外線的區(qū)間，物體表面通常在室溫下進行輻射。因Low-E膜正是在紅外線等長波長區(qū)反射率高而在可見光范圍內(nèi)反射率低的產(chǎn)品。
原始設(shè)計的Low-E膜在冬天使用最為有效。在美國，"Sunbelt"地帶指從南到西所有夏季炎熱、冬季寒冷的南部各州。在這些地區(qū)安裝的玻璃要求可見光的透過率高而陽光的透過率低。不久，美國的生產(chǎn)廠商就把陽光控制膜和Low膜結(jié)合在一起。起初陽光控制Low-E膜的第一種組裝方法是把Low-E膜放在IGU的內(nèi)側(cè)(3表面)，標準陽光控制膜被放在它的外側(cè)(2表面)。隨著市場對Low-E與陽光控制膜結(jié)合產(chǎn)品需要的增長，商家開發(fā)出新的產(chǎn)品并投放進市場，改良的鍍有銀層Low-E的陽光控制膜把這兩方面因素恰當?shù)亟M合在一起：高的可見光透過率和低的陽光透過率。即對Low-E膜的金屬膜膜層厚度和金屬膜系作一些調(diào)整，只在一個面上鍍膜的陽光控制膜低輻射鍍膜玻璃（鍍膜面可放在第二面，也可放在第三面）。當前的高性能產(chǎn)品是雙銀Low-E膜，這種Low-E膜同時也能產(chǎn)生出極好的陽光控制效果，因此可以在嚴寒的冬季或炎熱的夏季里得到廣泛的使用。
圖2-11k為Low-E膜系的標準結(jié)構(gòu)。因為鋅最便宜并且濺射速率非常高，許多Low-E膜是以ZnOx為基礎(chǔ)的。經(jīng)驗表明，當其他電介質(zhì)在ZnOx上沉積時，銀層可以比較薄而獲得導(dǎo)電性能較強的導(dǎo)電膜。但耐磨性不是最好。相反，使用C-Mag陰極系統(tǒng)生產(chǎn)的SiNx 其產(chǎn)品具有很高的耐磨性。
歐洲傳統(tǒng)的膜面都是以ZnOx為基面的，這樣，只要增加一個薄的SiOX膜層，膜系就可以具有較高的耐磨性能。所有這些產(chǎn)品都可以擴展為各個性能級別的雙銀Low-E膜。
圖2-11k
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